光學行業超純水設備工藝流程及優點簡介
來源:杭州純水設備??????2021-11-19 15:56:01??????點擊:
【杭州純化水設備http://baishuitongcaishui.cn】光學行業超純水設備工藝流程及優點簡介超純水是指既將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。超純水的電阻率一般在18MΩ*cm左右或接近18.25MΩ*cm極限值。
一般的純水設備工藝很難達到超純水設備的水質要求,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm。
超純水設備采用的是目前較為先進的EDI去電離子系統,其電阻率可達18MΩ*cm以上。
超純水系統工藝流程
原水→原水加壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→反滲透主機→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精制混床→0.2μm精密過濾器→用水點。純水設備,實驗室純水設備。杭州純化水設備,杭州GMP純化水設備。 半導體純水設備。
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